该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。
官方表示，自 2025 年初，可完整覆盖 90nm 及以上的初代机型 Raptor-500 交付落地后，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600 完成全方位技术升级：
该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。
官方表示，自 2025 年初，可完整覆盖 90nm 及以上的初代机型 Raptor-500 交付落地后，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600 完成全方位技术升级：
