美光预告G11 NAND:超400层堆叠,双倍密度,2027H2产能爬坡

发布时间:2026-10-22 11:36

  Micron当地时间昨日举行了 2026 年度技术网络研讨会,对 DRAM、泛 HBM、NAND 与 SSD 进行了展望,本篇关注闪存类别。

  美光本次预告了其预计 2027H2 产能爬坡的 G11 NAND 闪存,这家企业似乎跳过了 G10 世代。

  G11 NAND 堆叠超过 400 层,应用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度是现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍左右,同时能实现至高 1.5 倍的 I/O 速率,数据传输能耗则可减少 25% 以上。

  在 G11 后,美光计划在 NAND 中导入突破性的高迁移率材料,实现超密集的单元架构,强化节能属性。

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