三星将采用台积电3nm工艺为英伟达生产下一代HBM基底裸片

发布时间:2026-10-19 01:51

  三星电子将采用全球最大晶圆代工厂台积电的制造工艺,生产英伟达下一代定制高带宽内存的核心组件 —— 基底裸片。在此之前,三星供应的所有 HBM 产品中,作为存储芯片的核心裸片与充当系统半导体的基底裸片,均由三星自主生产。如今三星决定接受英伟达的技术要求,

  英伟达提出这一要求,是因为各家 HBM 供应商制造方案各不相同,难以基于同一套设计实现稳定一致的性能。标准化也能减轻针对每家供应商单独开展产品验证的工作量。负责三星晶圆代工业务的设备解决方案事业部经过内部评估,决定接受英伟达的要求。

  报道提到,对于标准 HBM 产品,三星仍会保留一站式全包生产策略。今年三星全球率先量产第六代 HBM4,目前第七代 HBM4E 正在进行量产验证;这两款产品的基底裸片都采用三星自研 4 纳米代工工艺,核心裸片则在三星华城、平泽厂区的 1c 产线生产。

  面向 AMD 等其他客户的定制 HBM,三星计划继续沿用一站式全包生产方案。同时三星也保留了在自家晶圆厂研发、生产 NVHBM 的可能性。一位业内人士表示:“三星正在验证,能否在自有产线上制造 NVHBM 基底裸片。这是一项预案,防止 NVHBM 需求超出台积电产能上限。”

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