光大证券:玻璃基板产业逐步迈向商业化 PSPI等PID材料需求空间有望打开

发布时间:2026-09-07 23:58

  光大证券发布研报称,随着算力芯片向大尺寸、高集成方向演进,传统有机封装基板的性能已逐步逼近物理极限。相比有机材料,玻璃基板具备超低翘曲度以及更优的热稳定性与机械稳定性,可支持更大的封装尺寸,并使布线设计规则获得约一个数量级的提升,从而支撑在单一封装内继续堆叠晶体管、延续摩尔定律。市场空间方面,SEMI预计玻璃基板将于2028年前后进入限量生产阶段,2028—2040年期间市场规模CAGR约为67.2%,对应2040年约130亿美元的市场空间。

  随着算力芯片向大尺寸、高集成方向演进,传统有机封装基板的性能已逐步逼近物理极限。据英特尔介绍,相比有机材料,玻璃基板具备超低翘曲度以及更优的热稳定性与机械稳定性,可支持更大的封装尺寸,并使布线设计规则获得约一个数量级的提升,从而支撑在单一封装内继续堆叠晶体管、延续摩尔定律。海外方面,英特尔历经约十年研发、累计投入约10亿美元,计划于本十年后半段交付完整的玻璃基板解决方案。国内方面,京东方自2020年启动玻璃基载板预研,2026年上半年已实现玻璃基封装载板试验线全自动化设备通线片/月;同时,公司已于2025年完成大尺寸、高层数玻璃基载板的样品开发与送样。市场空间方面,SEMI预计玻璃基板将于2028年前后进入限量生产阶段,2028—2040年期间市场规模CAGR约为67.2%,对应2040年约130亿美元的市场空间。

  在玻璃基板的重布线环节,介电层需同时兼具精细图形化能力与优良的电学、热学性能。随着高密度互连的推进,介电层图案的线宽/线距等要求不断提高,感光介电材料的应用有望增多。PSPI是一种典型的PID材料,在保留聚酰亚胺耐热、绝缘、高机械强度与低介电特性的同时,兼具光刻图形化能力,可用作RDL再布线层,以及IC芯片的缓冲/钝化层。针对玻璃基板用PID材料,海外厂商已取得较多研发进展:东丽于2025年12月发布可光定义PI薄膜,采用该薄膜可同步完成RDL微加工与TGV树脂填充,从而明显缩短工艺流程、降低成本,东丽计划在2026年4月起的财年内实现该材料的量产;富士胶片发布的LTC 9300与Durimide系列光可成像PI,同样定位用于先进封装的RDL与缓冲层。除PI类材料外,杜邦开发的BCB材料凭借低介电常数与低损耗、低吸湿等特性,亦可应用于先进封装RDL。

  鼎龙股份的PSPI产品在全球首批实现商业化量产的G8.6代AMOLED产线上实现首发批量配套供应,同时持续推进无氟PSPI、黑色像素定义层材料的研发与送样验证;在半导体封装领域,公司已布局8款PI产品,其中3款已取得多家客户订单。奥来德依托PSPI材料积累与成熟的显示材料产业化基础,明确切入玻璃基载板材料赛道,一方面自主研发、推进超薄低应力介质膜的国产化替代,另一方面定制开发封装专用高性能PSPI材料。瑞联新材的PSPI单体业务已与日本行业头部企业达成深度战略合作,同时投资7500万元建设蒲城海泰封装用PSPI材料产业化项目,预计2027年二季度完工。八亿时空的PSPI产线已建成,先进封装用PSPI感光树脂的中试开发已完成,为公司半导体材料业务拓展奠定基础。

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